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介绍
随着硬盘容量的迅速扩大， 数据存储工业需要生产新一代的 磁盘驱动器，磁盘与磁头的 间隙只有纳米级别。邻近纪录（Proximity Recording) 可以用来完成这样的高密度 存储。要使用邻近纪录，必须对摩擦系统（Tribology System） 进行相应的革新。
为了克服磁头与媒介不可避免的间歇 性接触造成的磁头磨损，我们在滑 动磁头上镀上极薄（约<3nm）的ta-C镀 膜，防止物理磨损和化学侵蚀。与溅射 的DLC和CVD的DLC相比，FCVA的ta-C镀膜 有优异的黏附性，提供更光滑的表面。高能量 离子的轰击同时提高了晶核密度，防止表面扩散。 因此镀膜的均匀性更高，厚度更薄，防腐性更好。 此外，我们的FCVA工艺稳定性相当高，完全符合大规模 镀膜生产的要求。
本个案研究包含以下内容：
ta-C 镀膜
