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介绍
非晶四面体碳（Tetrahedral Amorphous Carbon） 即ta-C膜是一种重要的高科技 材料。具有高硬度、低摩擦系数、耐 化学腐蚀、透光性、无电子亲和性等一 系列独特的性质。
FCVA 技术以令人满意的沉积 率，在低温情况下，大面积地镀上无杂 质、均匀性高的ta-C薄膜。我们的 ta-C 膜层 含有高达88%的sp3键，因此膜层硬度极高（达 到 75 GPa），摩擦系数极低（0.08），理想的光学带 隙（Optical Band Gap）2.5eV，理想的场发射效 应（Field Emission Effect）以及红外线透光性。
基于以上各种优异的性质，FCVA ta-C膜 被广泛应用于各种场合。尤其适合用于滑动/固定 磁头，磁介质，记录磁鼓，刀具，磨具和红外线光学设备。
本个案研究包含以下内容：
ta-C 镀膜
