FCVA是过滤阴极真空电弧(Filtered Cathodic Vacuum Arc) 的英文缩写，是被硬盘驱动器业界认可的镀膜新科技。

• 产生的是能量可调的100%纯净离子
  
  
  
• 先进而独特的膜层质量 (例：ta-C膜)
  
  

  其他公司的阴极电弧技术 *200倍显微镜观察		纳峰科技的双弯FCVA技术 *200倍显微镜观察

• 在镀膜过程中没有显著的热辐 射，无水冷却条件下基片温度一般可保持在70摄氏度以下
  
  
  
  
• 碳和金属镀膜过程中不需要引入气体，镀膜速度快

  	PVD (溅射)	CVD (PECVD)	FCVA
  成膜物质	原子/原子团	反应基团	100%离子
  能量峰值	约0.5eV	约1eV	10 至 2000eV
  镀膜时真空	1x10-2 mbar	1x10-2 mbar	1x10-5 mbar
  薄膜密度	约50 - 80%	约80 - 100%	约100%
  镀膜温度	约120°C	>200°C	<80°C
  镀膜面积	可以很大	ø12"	ø12"
  源材料	固体	气体	固体
  膜层均匀性	±5%	±5%	<±3%
  膜层重复性	±10%	±10%	<±5%
  运行成本	一般	昂贵	低廉