纳峰科技 - 镀膜源 - 大批量镀膜系统

Nanofilm Technologies International Pte. Ltd.

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我们的大批量镀膜系统把离子束清洗与刻蚀同FCVA科技相结合，主要用于工业切割工具、金属印模、塑料磨具，以及其他耐磨产品的大规模，低成本生产。

主题摘要

系统特色

性能指标

规格说明

离子束源

溅射阴极

系统特色

万能支架简化了镀膜工件的装载和卸载
创新的3-轴工件旋转设计
工件批量处理
实时工艺监控
友好方便的用户界面控制界面预览
用户自定义工序控制界面预览
各种参数和事件的日志控制界面预览
多源工艺真空室
- FCVA镀膜源
- 离子束源 (可选)
- 溅射镀膜源 (可选)
动态实时补偿(可选)
- 优异的工艺重复性

FCVA特点

纯等离子束沉积
可控离子束能量
异面双弯设计
- 无宏观颗粒
- 提高等离子束传送效率
创新的阳极／阴极设计
- 产生稳定的电弧和离子束
计算机控制的离子束扫描技术
- 达到大面积均匀的薄膜
自动靶面磨整
- 延长在线时间
室温下的镀膜工艺
可编程沉积率和沉积面积
全自动操作
简便易学的维护保养

性能指标

参数	FCVA	溅射	离子束
均匀性范围	< ±5%
重复性	±10% (标准模式) ±5% (补偿模式)	±5%	±5%
宏观颗粒水平	< 0.5/cm² (杂质> 0.3 µm)	NA	NA
本底真空	~ 10^-6 torr (工艺真空室)
单批抽真空室时间	40 mins
工件支架旋转速度	<5 rpm

规格说明

外形尺寸	3000 x 2500 x 2000 mm (LxWxH)
输入电源	3相, 30 kW
冷却水	30 l/min @ 0.3MPa (22 °C)
工艺气体	干N₂（通风), Ar(离子束和溅射)
真空系统	涡轮分子泵或冷凝泵(工艺真空室)

离子束源 (可选)

类型	Gridless
工艺气体	Ar, O₂, N₂, Ke
离子束能量	150 - 1800eV
离子束电流	0.3 - 4 A

溅射阴极(可选)

最大溅射能量	2kW - DC/RF
阴极电压	100 - 1000 V
放电电流	1 - 10 A
工作气压	0.5 to 5.0x10^-2 torr

*性能指标和规格说明以设备的附带文档为准。


	多真空室镀膜系统
	批量镀膜系统
	溅射镀膜系统
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	硬质镀膜介绍(PDF 967K)
	公司介绍(PDF 2.03M)
	过滤阴极真空电弧(FCVA)技术(PDF 2.71M)
	FCVA制备的镀膜性质(PDF 1.86M)
	FCVA镀膜技术的应用(PDF 2.81M)


	ta-C镀膜概要
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