Coating sources, Hard Film Coating, Metal film Source, Plasma Source, Cu Coating, Al Coating, Ti Coating, Ultra thin Metal Film Coating
Nanofilm Technologies International Pte. Ltd.
Home
FCVA Technology
Products
镀膜源
ta-C源
金属源
镀膜系统
多真空室镀膜系统
大批量镀膜系统
小批量镀膜系统
溅射镀膜系统
真空配件
法兰与接头
真空工艺室
Feedthrough
Coating Services
Applications
FAQs
Links
Contact us





©1999-2002 Nanofilm Technologies International Pte. Ltd.
All rights reserved.
Thin film technology. globe
 

我们的过滤阴极真空电弧镀膜源同样适用于超薄金属镀膜。时至今日，铜，铝，钛，钨等大部分金属材料都在我们的FCVA金属源上试验通过。

FCVA金属源可以提供更高的可控离子能量、均匀、致密、纯净的金属镀膜，完全适用于各种工业生产应用
主 题 摘 要
  FCVA特点
  性能指标
  规格说明

FCVA特点

  • 纯等离子束沉积
  • 可控离子束能量
  • 异面双弯设计
    - 无宏观颗粒
    - 提高等离子束传送效率
  • 创新的阳极／阴极设计
    - 产生稳定的电弧和离子束
  • 计算机控制的离子束扫描技术
    - 达到大面积均匀的薄膜
  • 自动靶面调整 - 延长在线时间
  • 室温下的镀膜工艺
  • 可编程沉积率和沉积面积
  • 全自动操作
  • 简便易学的维护保养
  • 大面积镀膜- Ø200mm
  • 实时工艺监控
  • 友好方便的用户界面
  • 用户自定义工序
  • 各种参数和事件的日志
  • 动态实时补偿 (可选) - 优异的工艺重复性
性能指标
参数 表现
均匀性范围 < ±3% (over Ø300 mm)
重复性
 ±10% (标准模式)
±5% (补偿模式)
镀膜气压 ~ 10-5 torr
规格说明
输入电源 3相, 10 kW
冷却水 15 l/min @ 0.4MPa (22°C)
气体压力 100 PSI
*性能指标和规格说明以设备的附带文档为准。
Related Topics
  ta-C源
  多真空室镀膜系统
  溅射镀膜系统
  更多内容...
  硬质镀膜介绍(PDF 967K)
  公司介绍(PDF 2.03M)
  过滤阴极真空电弧(FCVA)技术(PDF 2.71M)
  FCVA制备的镀膜性质(PDF 1.86M)
  FCVA镀膜技术的应用(PDF 2.81M)
  铜
  更多内容...
  金属镀膜
  更多内容...
  半导体
  更多内容...
  ta-C源是否同样可以用于镀金属膜?
  FCVA镀金属膜的主要优势是什么?
  FCVA是否也可镀出高品质的AlTiC或NiFe薄膜?
  更多内容...
Coating sources, Hard Film Coating, Metal film Source, Plasma Source, Cu Coating, Al Coating, Ti Coating, Ultra thin Metal Film Coating