纳峰科技 - 镀膜系统 - 多真空室镀膜系统

Nanofilm Technologies International Pte. Ltd.

©1999-2002 Nanofilm Technologies International Pte. Ltd.
All rights reserved.

我们的多真空室镀膜系统把离子束清洗与刻蚀同FCVA科技相结合，为不同镀膜应用提供成本低廉的标准模块化镀膜设备。多真空室镀膜系统配备拥有纳峰科技专利技术的过滤阴极真空电弧(FCVA)镀膜源。

可选模块包括离子束清洗与刻蚀镀膜源和溅射镀膜源，在工艺加工过程中，提供更广泛的处理手段。

主题摘要

系统特色

性能指标

规格说明

离子束源

溅射镀膜源

模块化设计提供功能上的机动性，用户通过组合预清洗，溅射和FCVA镀膜的先后次序，优化镀膜工艺，从而生产均匀一致、高品质的镀膜产品。

简介材料—CS-2103 (PDF 242K)

控制界面预览

FCVA特点

纯等离子束沉积
可控离子束能量
异面双弯设计
- 无宏观颗粒
- 提高等离子束传送效率
创新的阳极／阴极设计
- 产生稳定的电弧和离子束
计算机控制的离子束扫描技术
- 达到大面积均匀的薄膜
自动靶面磨整
- 延长在线时间
室温下的镀膜工艺
可编程沉积率和沉积面积
全自动操作
简便易学的维护保养

系统特色

真空装卸锁定装置(单片或多片晶片)
镀件自旋转部件
镀膜区域大至 Ø200 mm
实时工艺监控
友好方便的用户界面控制界面预览
用户自定义工序控制界面预览
各种参数和事件的日志控制界面预览
多源工艺真空室
- FCVA镀膜源
- 离子束源 (可选)
- 溅射镀膜源 (可选)
动态实时补偿(可选)
- 优异的工艺重复性

三真空室镀膜系统

除了以上述系统特色外还包括

更短的抽真空时间
缩短镀膜时间
工艺真空室的真空度更高（接近超高真空10^-8torr）
过渡真空室使用冷却泵去处水分

性能指标

参数	FCVA	溅射	离子束
均匀性范围	< ±5% (over Ø200 mm)
重复性	±10% (标准模式) ±5% (补偿模式)	±5%	±5%
宏观颗粒水平	< 1/cm² (杂质> 0.3 µm)	NA	NA
本底真空	<10^-6 torr (工艺真空室)
装载/卸载转换时间	< 5sec
真空恢复时间	~ 3 min (< 10^-4 torr)
镀件自旋转速度	< 100 rpm

规格说明

输入电源	3相, 30 kW
冷却水	30 l/min @ 0.3MPa (22 °C)
工艺气体	干N₂（通风), Ar(离子束和溅射)
真空系统	涡轮分子泵(装载/卸载室), 涡轮分子泵或冷凝泵(工艺真空室)

离子束源 (可选)

类型	灯丝阴极的Kaufman源
工艺气体	Ar, Ke或其他惰性气体
离子束能量	300 - 1000eV
离子束电流	50 - 300 mA

溅射阴极(可选)

最大溅射能量	2kW - DC/RF
阴极电压	100 - 1000 V
放电电流	1 - 10 A
工作气压	0.1 - 5.0x10^-2 torr

*性能指标和规格说明以设备的附带文档为准。


	简介材料—CS-2103(PDF 242K)

	硬质镀膜介绍(PDF 967K)
	公司介绍(PDF 2.03M)
	过滤阴极真空电弧(FCVA)技术(PDF 2.71M)
	FCVA制备的镀膜性质(PDF 1.86M)
	FCVA镀膜技术的应用(PDF 2.81M)
		下载Adobe Acrobat Reader


	ta-C源
	金属源
	更多内容...

	ta-C镀膜概要
	铜
	氧化锌
	更多内容...

	ta-C镀膜
	金属镀膜
	氧化物镀膜
	更多内容...

	数据存储
	半导体
	更多内容...

	FCVA源是否适用于高吞吐量的生产作业?
	是否可以用于双面镀膜?
	怎样达到镀膜的均匀性?
	在硬盘驱动器镀膜过程中怎样防止静电放电(ESD)?
	更多内容...