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镀膜更致密地附着在基材上，产生更少的空洞，因此镀膜质量更好
工艺室内，高能量离子将氧气离子化后，铝离子与氧离子和氧气能更充分地反应
耐磨损、防刮擦并且无粘滞性
重复性高， 在各种工艺处理条件下可以的得到理想的镀膜
优异的镀膜均匀性 （在8"圆片上<±2% )
通过改变施加在基片上的偏压，可调整到达基片的离子能量
异面双弯技术可以防止阴极电弧方式带来的杂质问题
低温工艺 （低于 60°C），但不影响镀膜与基材的附着力
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使用传统FCA技术
生产的Al2O3镀膜
*300倍光学显微镜
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使用本公司的FCVA技术
生产的 Al2O3镀膜
*300倍光学显微镜
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| 工艺处理 |
550nm折射率 |
| 热蒸发 |
1.5 |
| 离子束溅射 |
1.65 |
| 双离子束 |
1.62 |
| 反应蒸发 |
1.63 |
| 反应溅射 |
1.68 |
| FCVA 技术 |
1.68-1.69 |
| 大块材料 |
1.755-1.77 |
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| 微观结构与折射率 |
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| 通过使用FCVA技术，可以得到质量优异的Al2O3 镀膜 |
| 化学成分(含氧量) |
60.0±0.2 |
| 硬度 |
~14Gpa |
| 折射率 |
1.68-1.69 |
| 杨氏模量 |
~200Gpa |
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