溅射镀膜工艺广泛应用于生产实践和研究开发中。纳峰科技拥有工艺流程，系统设计和生产的一系列专业人才。此外，通过使用专门的高压/高频直流脉冲发生器，简便且高效地为用户提供基片清洗，产生的膜层质量优于传统的溅射工艺。

主要性能：

• 真空室可以是批量处理也可以是真空锁
• 基片夹具可以旋转和冷却
• 一体化的等离子清洗或离子束清洗
• 阴极可以通直流电，脉冲直流电或者射频
• 设有连续或反应溅射法
• 可以同时提供生产和研发使用
• 精确的闭环气压控制
• 可靠的自动控制，友好的用户界面，并具有全程数据日志。

系统特点：

• 备有闸门的两个共焦,距离角度可调的磁控管
• 膜层一致性±5%
• 射频和直流电源
• 可以对镀件旋转和水冷
• 在镀膜工艺过程中精确的闭环气压控制
• 全自动抽真空过程和溅射处理
• 实时工艺监控
• 友好方便的用户界面
• 各种参数和事件的日志

系统参数: