电弧蒸发沉积法(Arc-evaporation deposition)是对 机械工件进行耐磨处理的常用方法。但是，使用 此法容易产生颗粒杂质，膜层的质量得不到保证。为 了解决这个问题，纳峰科技私人有限公司研发了 崭新的FCVA镀膜科技。我们的专利 技术不仅可 以应用于高品质非晶四面体碳(ta-C)膜，而 且还可镀金属、金属氧化物等其他膜层。我们的成品 完全满足实际生产中各种严苛的条件。

在阴极真空电弧镀膜过程中，阴 极电弧发射等离子束（参杂了宏观颗粒和中 性原子）。电磁过滤弯管负责滤除那些不 必要的宏观颗粒和中性原子，只有那些 具有一定能量的离子可以到达基片。这个 特别的技术可以产生硬度更高，密度 更大，更纯净的薄膜。用FCVA方法 镀出的薄膜：与基片结合力更高；具有 良好的光学、化学、电子和机械性能；并且 重复性好，完全满足各种实际生产要求。

除此之外，在镀膜过程 中，基片的表面温度一般可以保持 在70°C以 下。因此，可以对塑 料或橡胶进行FCVA镀 膜。与传统方法（比 如：化学汽相沉积法，物 理汽相沉积法）不 同，FCVA技术产生 能量稳定的电弧 和100%纯离子束 流，能量可以根据 不同的要求精确控 制。通过这项科技 我们可以生产独特 的ta-C膜，并可产生高品质 的Al₂O₃膜。

纳峰科技的FCVA技术与其他类似技术相比的5个优势：

• 离子束能量可调，产生的薄膜性质可以选择和微调。因此薄膜与基片的结合力更好，薄膜的各项性质更稳定。

• 通过我们的等离子扫描专利技术，镀膜 有出众的均匀性和重复性，并且可以进行 大面积镀膜，这是其他类似技术所达不到的。

• 我们的专利技术产生少得多的宏观颗粒。例如ta-C膜， 相较其他类似技术的每平方厘米约10³个，我们 的镀膜每平方厘米仅含有约1个宏观颗粒。由纳峰科技生产的 镀膜设备已经成功地应用于硬盘滑动磁头表面镀膜及其它摩擦机械领域的应用。

• 我们的技术还包含阳极/阴极区域复杂的电磁场设置，阴极和阳极尺寸可 调，确保输出等离子为束状。这点对大面积高沉积率镀膜尤为重要。

• 我们的FCVA技术是低温工艺，镀膜过程可以控制在70°C以 下。镀膜过程中既不需要高温也不会产生高温。因此可以应用于各种低温 熔解的基材上，如：塑料，橡胶等。