JP

  我々のグループは国際的に特許化されたFCVA技術で競合会社にリードしています。コーティング種は100%イオン化されたプラズマで、真性的エネルギーを有しています。プラズマはFCVA技術によって電磁的な走査機構で直接コントロールすることができます。従来のPVDやCVD技術では高温成膜によって生じる問題が発生していましたが、FCVAはより高くより均一なエネルギーを持つコーティング種を生成しています。従って、FCVA法では低温条件下で、緻密かつ超高硬度で優れた付着力を持つ膜を生産することができます。


原理図

FCVA成膜源の特徴


•   純粋なイオンプラズマ蒸着技術

•   プラズマのエネルギーと照射方向を制御可能

•   アーク安定性を確実にするカソード/アノード設計

•   自動ターゲット研削機構(黒鉛ターゲット)

•   室温成膜

•   自動制御とユーザーに分かりやすいインターフェース

•   コンピュータ制御によるビーム走査

•   リアルタイムプロセスモニタリング

•   ユーザー定義のコーティングレシピ

•   パラメータやイベントのデータロギング

•   リアルタイム補償モード



PVD (磁控溅射)CVD(PECVD)FCVA
镀膜粒子原子原子反应基团离子
镀膜能量~0.1eV~1eV20to5000eV
工作气压7E-1Pa1Pa1E-3Pa
附着力普通普通很好
膜层密度~2.2g/cm3~2.0g/cm3~3.4g/cm3
镀膜均匀性不可调不可调可调
镀膜原材料固体气体固体
镀膜温度高温高温室温